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薄膜物理與器件

出版社：國防工業(yè)出版社出版時間：2011-05-01
開本： 16開 頁數(shù)： 332
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薄膜物理與器件 版權(quán)信息

薄膜物理與器件 內(nèi)容簡介

《薄膜物理與器件》主要論述了薄膜物理與薄膜器件的基本內(nèi)容，并概括介紹了在新材料技術(shù)領(lǐng)域中有著重要應(yīng)用的幾類主要的薄膜材料。書中比較系統(tǒng)地介紹了薄膜的物理化學(xué)制備原理與方法，包括蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍、化學(xué)氣相沉積、溶液制膜技術(shù)等；同時介紹了薄膜的形成，薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷，薄膜的電學(xué)性質(zhì)、力學(xué)性質(zhì)、半導(dǎo)體性質(zhì)、磁學(xué)性質(zhì)、超導(dǎo)性質(zhì)等；此外，還扼要介紹了幾類重要薄膜材料及其性能，分析歸納了相關(guān)研究發(fā)展動態(tài)。      《薄膜物理與器件》可作為材料科學(xué)與工程、電子科學(xué)與工程、電子材料與元器件、半導(dǎo)體物理與器件、應(yīng)用物理學(xué)等專業(yè)的教材或教學(xué)參考書，也可供相關(guān)科技、企業(yè)、公司的管理和技術(shù)人員參考。

薄膜物理與器件 目錄

**章 真空技術(shù)基礎(chǔ)
  1.1 真空基礎(chǔ)
  1.2 稀薄氣體的性質(zhì)
  1.3 真空的獲得
  1.4 真空的測量
  習(xí)題與思考題
第二章 薄膜的物理制備工藝學(xué)
  2.1 薄膜制備方法概述
  2.2 真空蒸發(fā)鍍膜
  2.3 濺射鍍膜
  2.4 離子束鍍膜
  2.5 分子束外延技術(shù)
  2.6 脈沖激光沉積技術(shù)
  習(xí)題與思考題
第三章 薄膜的化學(xué)制備工藝學(xué)
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