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分子遺傳學(xué)理論及新進(jìn)展研究

作者：孫睿著

出版社：中國紡織出版社出版時(shí)間：2021-01-01

開本： 26cm 頁數(shù)： 184頁

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版權(quán)信息
內(nèi)容簡介

分子遺傳學(xué)理論及新進(jìn)展研究版權(quán)信息

ISBN：9787518083435
條形碼：9787518083435 ; 978-7-5180-8343-5
裝幀：暫無
冊數(shù)：暫無
重量：暫無
所屬分類：

分子遺傳學(xué)理論及新進(jìn)展研究內(nèi)容簡介

本書以“重基礎(chǔ)、內(nèi)容新”為指導(dǎo)思想，從分子遺傳學(xué)的概念、術(shù)語及研究進(jìn)展出發(fā)，系統(tǒng)介紹和分析了遺傳學(xué)的理論和技術(shù)基礎(chǔ)。包含了分子遺傳學(xué)領(lǐng)域的多個(gè)方面，全書共分六章，主要內(nèi)容包括：分子遺傳學(xué)引論、基因的分子結(jié)構(gòu)、DNA的復(fù)制與基因表達(dá)、基因表達(dá)的調(diào)控，DNA損傷、修復(fù)與突變，分子遺傳學(xué)技術(shù)研究進(jìn)展。

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